Modèles prédictifs de procédés BEOL de métallisation au-delà du 65nm
Objectifs
Recherche sur le développement et validation de modèles pour la simulation numérique d étapes clefs de fabrication des filières microélectroniques
Il sagira de réaliser une démonstration de faisabilité de prédictions de propriétés telles que: topographie, arrangement 3D des grains et joints de grains, contraintes, rugosité dinterfaces, pour des lignes et vias au-delà de 65nm.
Cette étude répond à certains nombres de besoins TCAD prioritaire identifié dans la roadmap internationale de lindustrie des semi-conducteurs.
Le marché
Ce projet s’intègre dans un des axes prioritaires de développement d’In Silicio, qui projette un CA supérieur à 10 M€ et l’emploi de plus de 50 chercheurs et ingénieurs hautement qualifiés à l’horizon 2008-2010.
Porteurs
Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3 UMR 6182 CNRS )