Modèles prédictifs de procédés BEOL de métallisation au-delà du 65nm
Objectifs
Recherche sur le développement et validation de modèles pour la simulation numérique d’ étapes clefs de fabrication des filières microélectroniques
Il s’agira de réaliser une démonstration de faisabilité de prédictions de propriétés telles que: topographie, arrangement 3D des grains et joints de grains, contraintes, rugosité d’interfaces, pour des lignes et vias au-delà de 65nm.
Cette étude répond à certains nombres de besoins TCAD prioritaire identifié dans la roadmap internationale de l’industrie des semi-conducteurs.
Le marché
Ce projet s’intègre dans un des axes prioritaires de développement d’In Silicio, qui projette un CA supérieur à 10 M€ et l’emploi de plus de 50 chercheurs et ingénieurs hautement qualifiés à l’horizon 2008-2010.
Porteurs
Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3 UMR 6182 CNRS )
